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  设备用途: 设备用于半导体器件及集成电路制造过程中对硅片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺的热加工设备。 设备描述:   ◆关键件全部采用进口件,具有高可靠性。◆炉体采用四段加热,四点控温以确保双温区工作环境要求。◆ 采用进口智能控制器,可输出四个开关量,对炉温、阀门动作进行自动控制,并管理全部工艺时序,可编辑存贮九条工艺曲线。具有高抗干扰能力。◆具有多种工艺管路,可供用户随意灵活配置。5. 具有断电报警、超温报警、极限超温报警等多种安全保护功能。   主要技术参数:                                                   ◆可配工艺管外径:Φ120mm ◆最高操作温度:1150℃ ◆上恒温区工作温度:950℃ ◆下恒温区工作温度:900~1100℃ ◆上恒温区长度及精度:100mm/±10℃ ◆上恒温区长度及精度:150mm/±10℃ ◆升温时间:从室温到1150℃<60min 北京晶伏华控可为用户量身定制非标准设备
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本文阅读关键词:立式扩散炉,扩散炉,半导体扩散炉,炉体,集成电路
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发布时间: 价格说明: 立式扩散炉(图)面议
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公 司: 北京晶伏华控电子设备有限公司 联系人: 刘经理    添加为商业伙伴
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