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技术参数 1.SEM分辨率:1.1nm@15kV, 2.5nm@1kV 2.FIB分辨率:7nm (可达到5nm) 3.加速电压:SEM 200V-30kV, FIB 5-30kV 4.探测器:E-T二次电子探测器,TLD二次电子/背散射电子探测器,CDEM离子探测器,样品室红外CCD;可选STEM、固体背散射探测器等 5.气体注入系统(GIS):Pt沉积气体、W沉积气体、C沉积气体,金属增强蚀刻气体、氧化物增强蚀刻气体等 主要特点 1.FEI SEM/FIB双束系统,技术成熟,同一操作界面,SPI(FIB加工,SEM同时观察)技术 2.纳米加工、2D/3D纳米表征、纳米分析的理想工具 3.完善的气体注入(GIS)系统 4.丰富的分析功能,如3维重构、STEM分析、能谱分析、EBSP分析等 5.全数字化控制,FIB全自动操作 仪器介绍 Nova 200/600 NanoLab是FEI于2003年8月正式发布的SEM/FIB双束工作站。 FEI公司在几十年FIB和SEM经验的基础上,结合FEI最新的技术,为材料科学、特别是纳米技术设计了Nova NanoLab。用户可在一套系统上完成: - 纳米加工 - 纳米原型设计 - 2D/3D纳米表征 - 纳米分析 使这台设备成为联系SEM(进行纳米表征和微米分析)和TEM(纳米和原子级别分析和表征)的桥梁。
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