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生长大面积光学窗口(红外窗口、激光输出窗口)、探测窗口、微波窗口等 品特点概述 适用范围:生长大面积金刚石薄膜(4-10英寸,甚至更大) 生长速度:可高达几μm-几十μm/h,甚至更高; 生长范围:可在直径100mm范围内生长、或者在直径300mm范围内生长。 研究及小规模生产型:  微波功率:2.45GHz,6KW, 脉冲模式可选 (提高沉积速度和质量);  样品台:直径75-100mm,旋转衬底可选(提高大面积均匀性);  真空系统:oil pump/dry pump,TMP可选(营造高真空基准); 控制方式:半自动或全自动(操作灵活);  生长速率:高达30μm/h. 整体特点:专门生长大面积热沉级、光学级多晶薄膜配置,适合于研发、小规模生产。   大面积光学级金刚石厚膜生产研究型:  微波功率:915MHz,30KW; 水冷衬底:直径250mm或更大; 衬底加热和衬底旋转可选.           4个4英寸衬底, 加热和旋转衬底可选 真空系统:oil pump / dry pump+TMP(营造高真空基准);  控制系统:全自动控制(适合大批量生产); 生长速率:高达30μm/h, 或更高速率 整体特点:专门大面积金刚石薄膜研究及生产配置;可获得4-10英寸光学级金刚石厚膜,也可以用于研究合成曲面自支撑金刚石厚膜,请详细咨询!  
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发布时间: 价格说明: 微波等离子CVD系统(图)面议
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公 司: 上海续波光电技术有限公司 联系人: 肖伟    添加为商业伙伴
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