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磁控溅射镀膜系统——用于超导体(Nb, NbN, NbTiN )    圆柱形主腔体:电抛光不锈钢           低温泵+干泵,真空度< 4×10 -8 Torr。                                 三个6’’ DC磁控靶源,最大可达8英寸;           分别配备独立挡板,无交叉污染。           RF加载到DC靶源可选,可用DC/RF。           氩气和氮气气路可用           4’’衬底加热:最高750℃, 均匀性5℃内;单色光学高温计           样品台冷却:水冷           石英晶振监测(DC/RF模式下均可)           衬底RF刻蚀及偏压(13.56MHz,气冷) LOAD LOCK (带自动传动手臂)           分子泵+干泵,真空度< 2×10-7 Torr           全自动传动衬底 控制单元:全自动电脑控制,半自动和手动模式可选;远程维护可用。 典型用户包括:格拉斯哥大学、法国波尔多第一大学、法国科学研究中心(CNRS)、CEA、加拿大滑铁卢大学等。欢迎联系我们索取详细资料!
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本文阅读关键词:磁控溅射,MEMS,超导量子结,约瑟夫森结,溅射镀膜系统
磁控溅射镀膜系统(图)-图片展示区:


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发布时间: 价格说明: 磁控溅射镀膜系统(图)面议
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公 司: 上海续波光电技术有限公司 联系人: 肖伟    添加为商业伙伴
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