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工作原理   将待镀基片送入装有磁控阴极 ( 靶材 ) 的真空室内,阴极和真空室间是绝缘的并加有负高压,再充入适当的溅射气体 ( 如 Ar) 或反应气体,当真空度达到一定程度时 ( 通常为 10-2 ~ 10-4mbar) 在电场下靶面前产生辉光放电,溅射气体被分解成正离子和电子,正离子被吸向靶的表面,气体离子和靶面的撞击力把原子从靶面撞出来沉积在基片的表面。靶后面安装的磁铁产生磁场捕获电子和气体碰撞产生更多的离子,从而达到高的溅射速率。真空磁控溅射镀膜具有溅射速率高,可镀面积大,膜层均匀,附着力好,基板温升小,可镀材料广等优点,是其它溅射和蒸发或镀膜方式不能比拟的。  南光牌磁控溅射真空镀膜机的主要机型及参数 型号 应用特点 装片工作台特点 基片尺寸 产量/每小时 lm铝层厚度 厚度均匀度 真空系统 JC600-1/D 适用于矩形片状工件 工件架为十边柱型·垂直装片 280×100 20 4-8% 扩散泵系统 J0600-2/D 适合科研,生产和砷化镓 基片亚微米级 工件可进行白、公转·水平装片 3" 24 ±5% 低温泵系统 JC500-1/D 适用于圆形片状工件 工件可进行公转·水平装片 4" 16 ±8% 分子泵系统 JC500-5/D 适用于矩形片状工件 垂直装片·工件可进行公转 150×150 10 ±8% 分子泵系统 JC800-6/D 适合科研,生产0.5μ大规模 集成电路及光盘,磁盘 全自动盒对盒·水平短距离 操作·低尘粒 6" 50 ±5% 低温泵系统 分子泵系统
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