PECVD(图),PECVD(图)价格,PECVD(图)销售

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本设备用于太阳能电池生产制造行业，在125mm×125mm或156×156mm硅片上淀积Si3N4薄膜工艺。 1．工业微机对工艺时间、温度、气体流量、阀门动作、反应室压力实现自动控制。2. 采用进口压力控制系统，闭环控制，稳定性高。3. 采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门，确保气路洁净度及气密性。4. 具有完善的报警功能及安全互锁装置。5. 具有超温报警与欠温报警、MFC报警、反应室压力报警、RF报警、高压空气压力报警、氮气压力报警等。6. 悬臂式送料装置，减少石英管磨损，设备安全性增强。7. 前置式射频引入方式，稳定、直观，易于操作。8. 双层反应室，易于维护和清理。9. 成熟产品，应用于国内多条太阳能电池片生产线，并出口海外。10.适合晶体硅太阳能新工艺的探索实验。膜厚均匀性：项目片内片间批间均匀性 ≤±3% ≤±4% ≤±5% 温度使用范围：150～400℃ 极限真空度：优于1Pa 压力调节范围：13～300Pa 连续可调，闭环控制射频电源： 400KHz连续可调工艺气体路数：3路（SiH4、NH3、N2、）温区长度（150～400℃）：1000mm 温区稳定性（400℃）： ±2℃ 温区稳定性(＜400℃＝： ±2℃ 温度梯度： 0～30℃/1000mm可调淀积速率： 30nm/min 深层折射率： 1.9～2.2每管生产率升温时间： ≤50min整机控制方式：工业控制微机
本文阅读关键词：减反射膜设备，PECVD，cvd设备
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公　司:	青岛赛瑞达设备制造有限公司	联系人：	宋德鹏添加为商业伙伴

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